Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Центр промышленной томографии Международная научно-образовательная лаборатория неразрушающего контроля, Moskovchenko A. I. Aleksey Igorevich, Svantner M. Michal, Vavilov V. P. Vladimir Platonovich, & Chulkov A. O. Arseniy Olegovich. (2021). Characterizing Depth of Defects with Low Size/Depth Aspect Ratio and Low Thermal Reflection by Using Pulsed IR Thermography; Materials; Vol. 14, iss. 8. 2021. https://doi.org/10.3390/ma14081886
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Центр промышленной томографии Международная научно-образовательная лаборатория неразрушающего контроля, Moskovchenko A. I. Aleksey Igorevich, Svantner M. Michal, Vavilov V. P. Vladimir Platonovich, و Chulkov A. O. Arseniy Olegovich. Characterizing Depth of Defects with Low Size/Depth Aspect Ratio and Low Thermal Reflection by Using Pulsed IR Thermography; Materials; Vol. 14, Iss. 8. 2021, 2021. https://doi.org/10.3390/ma14081886.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Центр промышленной томографии Международная научно-образовательная лаборатория неразрушающего контроля, et al. Characterizing Depth of Defects with Low Size/Depth Aspect Ratio and Low Thermal Reflection by Using Pulsed IR Thermography; Materials; Vol. 14, Iss. 8. 2021, 2021. https://doi.org/10.3390/ma14081886.