Радиоактивационный контроль плотности износостойких покрытий AlN и CrN на кремнии
| Parent link: | Письма в Журнал технической физики Т. 47, № 10.— 2021.— [С. 26-29] |
|---|---|
| Corporate Author: | |
| Other Authors: | , , , |
| Summary: | Заглавие с экрана С помощью комбинации двух методик (неразрушающего радиоактивационного анализа на пучках протонов и оптической микроинтерферометрии) измерены соответственно массовые и линейные толщины покрытий AlN и CrN, осажденных на кремниевые подложки методом магнетронного распыления. Показано, что при линейных толщинах от 2.2 до 5.7 ?m плотность покрытий близка к значениям для объемных материалов AlN (3.26 g/cm3) и CrN (5.9 g/cm3), а стехиометрию нитридов можно контролировать, изменяя параметры магнетронного осаждения. Методика может быть использована также для определения плотности покрытий из карбидов и оксидов металлов, которые применяются в качестве износостойких покрытий. In this work, the mass and linear thicknesses of AlN and CrN coatings deposited onto silicon substrates by magnetron sputtering were measured, respectively, by a combination of the methods of nondestructive radioactivation analysis on proton beams of the U-120M cyclotron and optical micro-interferometry. It is shown that, at linear thicknesses in the range of 2.2-5.7 ?m, the coating density is close to the values for bulk materials AlN (3.26 g / cm3) and CrN (5.9 g / cm3), and the stoichiometry of nitrides is controlled by the parameters of magnetron deposition. The technique can also be used to determine the density of wear-resistant coatings from carbides and metal oxides. |
| Published: |
2021
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.10.50969.18722 |
| Format: | Electronic Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=665621 |
MARC
| LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 665621 | ||
| 005 | 20250204154840.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\36824 | ||
| 035 | |a RU\TPU\network\36500 | ||
| 090 | |a 665621 | ||
| 100 | |a 20211027d2021 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Радиоактивационный контроль плотности износостойких покрытий AlN и CrN на кремнии |d Radioactivation Monitoring of the Density of Wear-Resistant AlN and CrN Coatings on Silicon |f В. А. Рыжков, В. А. Тарбоков, Е. А. Смолянский, Г. Е. Ремнев | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: 5 назв.] | ||
| 330 | |a С помощью комбинации двух методик (неразрушающего радиоактивационного анализа на пучках протонов и оптической микроинтерферометрии) измерены соответственно массовые и линейные толщины покрытий AlN и CrN, осажденных на кремниевые подложки методом магнетронного распыления. Показано, что при линейных толщинах от 2.2 до 5.7 ?m плотность покрытий близка к значениям для объемных материалов AlN (3.26 g/cm3) и CrN (5.9 g/cm3), а стехиометрию нитридов можно контролировать, изменяя параметры магнетронного осаждения. Методика может быть использована также для определения плотности покрытий из карбидов и оксидов металлов, которые применяются в качестве износостойких покрытий. | ||
| 330 | |a In this work, the mass and linear thicknesses of AlN and CrN coatings deposited onto silicon substrates by magnetron sputtering were measured, respectively, by a combination of the methods of nondestructive radioactivation analysis on proton beams of the U-120M cyclotron and optical micro-interferometry. It is shown that, at linear thicknesses in the range of 2.2-5.7 ?m, the coating density is close to the values for bulk materials AlN (3.26 g / cm3) and CrN (5.9 g / cm3), and the stoichiometry of nitrides is controlled by the parameters of magnetron deposition. The technique can also be used to determine the density of wear-resistant coatings from carbides and metal oxides. | ||
| 461 | |t Письма в Журнал технической физики | ||
| 463 | |t Т. 47, № 10 |v [С. 26-29] |d 2021 | ||
| 510 | 1 | |a Radioactivation Monitoring of the Density of Wear-Resistant AlN and CrN Coatings on Silicon |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a плотность | |
| 610 | 1 | |a радиоактивационный анализ | |
| 610 | 1 | |a магнетроны | |
| 701 | 1 | |a Рыжков |b В. А. |c специалист в области ядерной физики |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук |f 1958- |g Владислав Андреевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\44019 | |
| 701 | 1 | |a Тарбоков |b В. А. |c специалист в области материаловедения |c ведущий инженер Томского политехнического университета, кандидат технических наук |f 1969- |g Владислав Александрович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26417 | |
| 701 | 1 | |a Смолянский |b Е. А. |c физик |c инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1985- |g Егор Александрович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\37672 |9 20477 | |
| 701 | 1 | |a Ремнев |b Г. Е. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук |f 1948- |g Геннадий Ефимович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22004 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа новых производственных технологий |b Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий" |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23502 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20211027 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u https://doi.org/10.21883/PJTF.2021.10.50969.18722 | |
| 942 | |c CF | ||