Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, . . . Weifs S. Sabine. (2021). Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition; Vacuum; Vol. 191. 2021. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110400
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Hot Target Magnetron Sputtering Enhanced by RF-ICP Source for CrNx Coatings Deposition; Vacuum; Vol. 191. 2021, 2021. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110400.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Hot Target Magnetron Sputtering Enhanced by RF-ICP Source for CrNx Coatings Deposition; Vacuum; Vol. 191. 2021, 2021. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110400.