Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V. Iljya Viktorovich, Ananin P. S. Petr Semenovich, . . . Sivin D. O. Denis Olegovich. (2019). Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012021
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012021.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012021.