Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Yu Xiao, Zhang Shijian, Stepanov A. V. Andrey Vladimirovich, Shamanin V. I. Vitaly Igorevich, . . . Le Xiaoyun. (2020). Focusing of intense pulsed ion beam by magnetically insulated diode for material research; Surface and Coatings Technology; Vol. 384. 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125351
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", et al. Focusing of Intense Pulsed Ion Beam by Magnetically Insulated Diode for Material Research; Surface and Coatings Technology; Vol. 384. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125351.
MLA引文Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", et al. Focusing of Intense Pulsed Ion Beam by Magnetically Insulated Diode for Material Research; Surface and Coatings Technology; Vol. 384. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125351.