Параметры и свойства электроизоляционного покрытия окиси алюминия, осажденного на металле форвакуумным источником
| Parent link: | Прикладная физика.— , 1994- № 2.— 2020.— [С. 53-58] |
|---|---|
| Ente Autore: | |
| Altri autori: | , , , , , |
| Riassunto: | Заглавие с экрана Представлены результаты исследований, направленные на решение проблемы создания диэлектрических покрытий на поверхности проводников для придания им электроизоляционных свойств. Для создания покрытий применялось электронно-лучевое испарение керамики с помощью форвакуумного плазменного источника электронов. Измерены относительная диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь, полное сопротивление осажденного электроизоляционного покрытия. We present our research results aimed at solving the problem of creating dielectric coatings on the surface of conductors in order to provide electrically-insulating properties. For the coatings deposition we employed electron-beam evaporation of ceramics using the fore-vacuum plasma-cathode electron source. The relative permittivity, tangent of dielectric losses, and the total resistance of the deposited electrical insulating coating were measured. |
| Pubblicazione: |
2020
|
| Soggetti: | |
| Accesso online: | http://applphys.orion-ir.ru/appl-20/20-2/PF-20-2-53.pdf https://www.elibrary.ru/item.asp?id=43064331 |
| Natura: | Elettronico Capitolo di libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=663690 |
| Riassunto: | Заглавие с экрана Представлены результаты исследований, направленные на решение проблемы создания диэлектрических покрытий на поверхности проводников для придания им электроизоляционных свойств. Для создания покрытий применялось электронно-лучевое испарение керамики с помощью форвакуумного плазменного источника электронов. Измерены относительная диэлектрическая проницаемость, тангенс угла диэлектрических потерь, полное сопротивление осажденного электроизоляционного покрытия. We present our research results aimed at solving the problem of creating dielectric coatings on the surface of conductors in order to provide electrically-insulating properties. For the coatings deposition we employed electron-beam evaporation of ceramics using the fore-vacuum plasma-cathode electron source. The relative permittivity, tangent of dielectric losses, and the total resistance of the deposited electrical insulating coating were measured. |
|---|