Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, & Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. (2019). Thermal stability of a-C: H:SiOx thin films in hydrogen atmosphere; Thin Solid Films; Vol. 690. 2019. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137531
Citazione stile Chigago Style (17a edizione)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, e Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. Thermal Stability of A-C: H:SiOx Thin Films in Hydrogen Atmosphere; Thin Solid Films; Vol. 690. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137531.
Citatione MLA (9a ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, et al. Thermal Stability of A-C: H:SiOx Thin Films in Hydrogen Atmosphere; Thin Solid Films; Vol. 690. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137531.