توثيق جمعية علم النفس الأمريكية APA (الطبعة السابعة)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Лаборатория плазменных гибридных систем, Marjin P. V. Pavel Vladimirovich, Ivanova N. M. Nina Mikhailovna, Shesterikov E. V. Evgeny Viktorovich, . . . Tverdokhlebov S. I. Sergei Ivanovich. (2020). Effect of Intermediate Ion Cleaning of the Titanium Target on the Structure of Bioresorbable PLLA Scaffolds under Coating Deposition by DC Reactive Magnetron Sputtering. 2020. https://doi.org/10.1134/S2075113320030326

توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Лаборатория плазменных гибридных систем, Marjin P. V. Pavel Vladimirovich, Ivanova N. M. Nina Mikhailovna, Shesterikov E. V. Evgeny Viktorovich, Bolbasov E. N. Evgeny Nikolaevich, و Tverdokhlebov S. I. Sergei Ivanovich. Effect of Intermediate Ion Cleaning of the Titanium Target on the Structure of Bioresorbable PLLA Scaffolds Under Coating Deposition by DC Reactive Magnetron Sputtering. 2020, 2020. https://doi.org/10.1134/S2075113320030326.

توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Effect of Intermediate Ion Cleaning of the Titanium Target on the Structure of Bioresorbable PLLA Scaffolds Under Coating Deposition by DC Reactive Magnetron Sputtering. 2020, 2020. https://doi.org/10.1134/S2075113320030326.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.