Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Liang Guoying, Zhong Haowen, Zhang Shijian, Xu Mofei, Kuang Shicheng, & Remnev G. E. Gennady Efimovich. (2020). Molecular dynamics study of damage nearby silicon surface bombarded by energetic carbon ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Liang Guoying, Zhong Haowen, Zhang Shijian, Xu Mofei, Kuang Shicheng, i Remnev G. E. Gennady Efimovich. Molecular Dynamics Study of Damage Nearby Silicon Surface Bombarded by Energetic Carbon Ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 9)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", et al. Molecular Dynamics Study of Damage Nearby Silicon Surface Bombarded by Energetic Carbon Ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350.