Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Liang Guoying, Zhong Haowen, Zhang Shijian, Xu Mofei, Kuang Shicheng, & Remnev G. E. Gennady Efimovich. (2020). Molecular dynamics study of damage nearby silicon surface bombarded by energetic carbon ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Liang Guoying, Zhong Haowen, Zhang Shijian, Xu Mofei, Kuang Shicheng, and Remnev G. E. Gennady Efimovich. Molecular Dynamics Study of Damage Nearby Silicon Surface Bombarded by Energetic Carbon Ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350.
MLA citiranjeНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", et al. Molecular Dynamics Study of Damage Nearby Silicon Surface Bombarded by Energetic Carbon Ions; Surface and Coatings Technology; Vol. 385. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125350.