Свойства пленок ZnO: Al, ZnO:Al-SiO2, полученных золь-гель-методом из пленкообразующих растворов; Известия вузов. Физика; Т. 63, № 4 (748)

Dades bibliogràfiques
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)
Т. 63, № 4 (748).— 2020.— [С. 55-61]
Autor principal: Кузнецова С. А. Светлана Анатольевна
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Юргинский технологический институт
Altres autors: Мальчик А. Г. Александра Геннадьевна, Козик В. В. Владимир Васильевич
Sumari:Заглавие с экрана
Золь-гель-методом из этанольных пленкообразующих растворов на основе Zn[C6H4OHCOO]NO3, Al(NO3)3∙9H2O и Si(OC2H5)4 на стеклянных подложках получены пленки ZnO, ZnO:Al (5 мас. %) и ZnO:Al (5 мас. %) - SiO2 (5 мас. %). Исследованы их пропускающая способность в видимой области спектра, сопротивление и фотокаталитические свойства. Показано, что добавка Al практически не оказывает влияние на пропускающую способность пленок ZnO в видимой области спектра, но увеличивает проводимость, снижая поверхностное сопротивление до 107 Ом. Наибольшей пропускающей способностью обладают пленки ZnO:Al-SiO2 (до 95 %). Добавка SiO2 не оказывает влияние на проводимость пленок ZnO:Al. Наибольшей фотокаталитической активностью обладают пленки ZnO:Al. Константа скорости фоторазложения метилового оранжевого составляет 1.47×10-2 мин-1, что на порядок выше скорости разложения метилового оранжевого в присутствии коммерческого фотокатализатора Degussa P25. Добавка SiO2 снижает степень кристалличности пленок ZnO:Al и уменьшает их фотокаталитическую активность.
The ZnO, ZnO:Al (5 wt.%) and ZnO:Al (5 wt.%) - SiO2 (5 wt.%) films were obtained on glass substrates by sol-gel method from ethanol film-forming solutions based on Zn[C6H4OHCOO]NO3, Al (NO3)3 • 9H2O and Si(OC2H5)4. Transmittance in the visible region of the spectrum, resistance, and photocatalytic properties were investigated. It was shown that Al additive have practically no effect on the transmittance of ZnO films in the visible region of the spectrum, but increase the conductivity, reducing the surface resistance to 107 ?. ZnO: Al-SiO2 films are the highest transmittance (up to 95%). The addition of SiO2 does not affect the conductivity of ZnO:Al films. ZnO:Al films have the highest photocatalytic activity. The rate constant for the photodegradation of methyl orange is 1.47?10-2 min-1, which is an order of magnitude higher than the rate of decomposition of methyl orange in the presence of a commercial Degussa P25 photocatalyst. The addition of SiO2 reduces the crystallinity of ZnO:Al films and reduces their photocatalytic activity.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:rus
Publicat: 2020
Matèries:
Accés en línia:https://www.elibrary.ru/item.asp?id=42776113
Format: MixedMaterials Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=662167

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 662167
005 20250408160850.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\33302 
035 |a RU\TPU\network\33300 
090 |a 662167 
100 |a 20200525d2020 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a arcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Свойства пленок ZnO: Al, ZnO:Al-SiO2, полученных золь-гель-методом из пленкообразующих растворов  |d Properties of ZnO:Al, ZnO:Al-SiO2 films obtained by the zol-gel method from film-forming solutions  |f С. А. Кузнецова, А. Г. Мальчик, В. В. Козик 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 26 назв.] 
330 |a Золь-гель-методом из этанольных пленкообразующих растворов на основе Zn[C6H4OHCOO]NO3, Al(NO3)3∙9H2O и Si(OC2H5)4 на стеклянных подложках получены пленки ZnO, ZnO:Al (5 мас. %) и ZnO:Al (5 мас. %) - SiO2 (5 мас. %). Исследованы их пропускающая способность в видимой области спектра, сопротивление и фотокаталитические свойства. Показано, что добавка Al практически не оказывает влияние на пропускающую способность пленок ZnO в видимой области спектра, но увеличивает проводимость, снижая поверхностное сопротивление до 107 Ом. Наибольшей пропускающей способностью обладают пленки ZnO:Al-SiO2 (до 95 %). Добавка SiO2 не оказывает влияние на проводимость пленок ZnO:Al. Наибольшей фотокаталитической активностью обладают пленки ZnO:Al. Константа скорости фоторазложения метилового оранжевого составляет 1.47×10-2 мин-1, что на порядок выше скорости разложения метилового оранжевого в присутствии коммерческого фотокатализатора Degussa P25. Добавка SiO2 снижает степень кристалличности пленок ZnO:Al и уменьшает их фотокаталитическую активность. 
330 |a The ZnO, ZnO:Al (5 wt.%) and ZnO:Al (5 wt.%) - SiO2 (5 wt.%) films were obtained on glass substrates by sol-gel method from ethanol film-forming solutions based on Zn[C6H4OHCOO]NO3, Al (NO3)3 • 9H2O and Si(OC2H5)4. Transmittance in the visible region of the spectrum, resistance, and photocatalytic properties were investigated. It was shown that Al additive have practically no effect on the transmittance of ZnO films in the visible region of the spectrum, but increase the conductivity, reducing the surface resistance to 107 ?. ZnO: Al-SiO2 films are the highest transmittance (up to 95%). The addition of SiO2 does not affect the conductivity of ZnO:Al films. ZnO:Al films have the highest photocatalytic activity. The rate constant for the photodegradation of methyl orange is 1.47?10-2 min-1, which is an order of magnitude higher than the rate of decomposition of methyl orange in the presence of a commercial Degussa P25 photocatalyst. The addition of SiO2 reduces the crystallinity of ZnO:Al films and reduces their photocatalytic activity. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |o научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) 
463 |t Т. 63, № 4 (748)  |v [С. 55-61]  |d 2020 
510 1 |a Properties of ZnO:Al, ZnO:Al-SiO2 films obtained by the zol-gel method from film-forming solutions  |z eng 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a пленки 
610 1 |a сопротивление 
610 1 |a фотокатализ 
610 1 |a прозрачные пленки 
610 1 |a морфология поверхности 
700 1 |a Кузнецова  |b С. А.  |g Светлана Анатольевна 
701 1 |a Мальчик  |b А. Г.  |c специалист в области экологии и безопасности жизнедеятельности  |c доцент Юргинского технологического института Томского политехнического университета, кандидат технических наук  |f 1970-  |g Александра Геннадьевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31293  |9 15471 
701 1 |a Козик  |b В. В.  |c химик-технолог  |c профессор-консультант Юргинского технологического института Томского политехнического университета  |f 1947-  |g Владимир Васильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31583  |9 15743 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Юргинский технологический институт  |c (2009- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\15903 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20200525  |g RCR 
856 4 0 |u https://www.elibrary.ru/item.asp?id=42776113 
942 |c CF