Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Отделение электронной инженерии, Geints Yu. E. Yuri, Minin O. V. Oleg Vladilenovich, Minin I. V. Igor Vladilenovich, & Zemlyanov Yu. E. Alexander. (2020). Self-images contrast enhancement for displacement Talbot lithography by means of composite mesoscale amplitude-phase masks. 2020. https://doi.org/10.1088/2040-8986/ab5b7d

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Отделение электронной инженерии, Geints Yu. E. Yuri, Minin O. V. Oleg Vladilenovich, Minin I. V. Igor Vladilenovich, and Zemlyanov Yu. E. Alexander. Self-images Contrast Enhancement for Displacement Talbot Lithography by Means of Composite Mesoscale Amplitude-phase Masks. 2020, 2020. https://doi.org/10.1088/2040-8986/ab5b7d.

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности Отделение электронной инженерии, et al. Self-images Contrast Enhancement for Displacement Talbot Lithography by Means of Composite Mesoscale Amplitude-phase Masks. 2020, 2020. https://doi.org/10.1088/2040-8986/ab5b7d.