Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Dektyarev S. V. Sergey Valentinovich, & Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich. (2020). Formation of repetitively pulsed high-intensity, low-energy silicon ion beams; Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment; Vol. 953. 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Dektyarev S. V. Sergey Valentinovich, and Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich. Formation of Repetitively Pulsed High-intensity, Low-energy Silicon Ion Beams; Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment; Vol. 953. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092.

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, et al. Formation of Repetitively Pulsed High-intensity, Low-energy Silicon Ion Beams; Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment; Vol. 953. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092.