APA (7e ed.) Bronvermelding

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Dektyarev S. V. Sergey Valentinovich, & Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich. (2020). Formation of repetitively pulsed high-intensity, low-energy silicon ion beams. 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092

Chicago (17e ed.) Bronvermelding

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Dektyarev S. V. Sergey Valentinovich, en Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich. Formation of Repetitively Pulsed High-intensity, Low-energy Silicon Ion Beams. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092.

MLA (9e ed.) Bronvermelding

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, et al. Formation of Repetitively Pulsed High-intensity, Low-energy Silicon Ion Beams. 2020, 2020. https://doi.org/10.1016/j.nima.2019.163092.