Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Nikitin D. S. Dmitry Sergeevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, & Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. (2019). Deposition of cubic tungsten carbide coating on metal substrates at sputtering of electric discharge plasma; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012133
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Sivkov A. A. Aleksandr Anatolyevich, Shanenkov I. I. Ivan Igorevich, Ivashutenko A. S. Alexander Sergeevich, Nikitin D. S. Dmitry Sergeevich, Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna, and Rakhmatullin I. A. Ilyas Aminovich. Deposition of Cubic Tungsten Carbide Coating on Metal Substrates at Sputtering of Electric Discharge Plasma; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012133.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", et al. Deposition of Cubic Tungsten Carbide Coating on Metal Substrates at Sputtering of Electric Discharge Plasma; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1393 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019. https://doi.org/10.1088/1742-6596/1393/1/012133.