High Intensity low Aluminum Ion Energy Implantation into Titanium; Ion Implantation Technology (IIT 2018)

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:	Ion Implantation Technology (IIT 2018).— 2018.— [P. 364-367]
Համատեղ հեղինակներ:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Управление проректора по научной работе и инновациям Центр сопровождения сетевых проектов
Այլ հեղինակներ:	Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Kashkarov E. B. Egor Borisovich, Bozhko I. A. Irina Aleksandrovna, Stepanov I. B. Igor Borisovich
Ամփոփում:	Title screen This study describes the possibility of ultra-high dose aluminum ion implantation for surface modification of titanium. The DC vacuum arc source was used to produce dense metal plasma. Plasma immersion aluminum ions extraction and their ballistic focusing in equipotential space of negatively biased hemispherical electrode was used to obtain high intensity aluminum ion beam with the maximum amplitude of 1 A at the ion current density up to hundreds of mA/cm 2 . The original filtration system was used to prevent the deposition of vacuum arc aluminum macroparticles onto the irradiation area of titanium sample. Aluminum low energy ions (ion energy E <; 10 keV) were implanted into titanium with the doses reaching 10 21 ion/cm 2 . The effect of ion current density, implantation dose and substrate temperature on the phase composition, microstructure and distribution of elements was studied by X-ray diffraction, scanning electron microscopy and glow-discharge optical emission spectroscopy, respectively. The results show the appearance of Ti 3 Al intermetallic phase after Al implantation. The depth of aluminum penetration into titanium increases with the implantation dose and multiply exceeds the projected ranges of ions of given energies. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Լեզու:	անգլերեն
Հրապարակվել է:	2018
Խորագրեր:	электронный ресурс труды учёных ТПУ high intensity implantation low energy ions aluminum intermetallic phases имплантация высокая эффективность низкоэнергетические ионы алюминий интерметаллические фазы
Առցանց հասանելիություն:	https://doi.org/10.1109/IIT.2018.8807970
Ձևաչափ:	Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=661349