Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Управление проректора по научной работе и инновациям Центр сопровождения сетевых проектов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, . . . Stepanov I. B. Igor Borisovich. (2018). High Intensity low Aluminum Ion Energy Implantation into Titanium; Ion Implantation Technology (IIT 2018). 2018. https://doi.org/10.1109/IIT.2018.8807970
Style de citation Chicago (17e éd.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. High Intensity Low Aluminum Ion Energy Implantation into Titanium; Ion Implantation Technology (IIT 2018). 2018, 2018. https://doi.org/10.1109/IIT.2018.8807970.
Style de citation MLA (9e éd.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. High Intensity Low Aluminum Ion Energy Implantation into Titanium; Ion Implantation Technology (IIT 2018). 2018, 2018. https://doi.org/10.1109/IIT.2018.8807970.