Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, . . . Ivanova A. I. Anna Ivanovna. (2019). Ultra high fluence implantation of aluminum ions into CP–Ti. 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, et al. Ultra High Fluence Implantation of Aluminum Ions into CP–Ti. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, et al. Ultra High Fluence Implantation of Aluminum Ions into CP–Ti. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179.