Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, . . . Ivanova A. I. Anna Ivanovna. (2019). Ultra high fluence implantation of aluminum ions into CP–Ti; Journal of Alloys and Compounds; Vol. 793. 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179
शिकागो शैली (17वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, et al. Ultra High Fluence Implantation of Aluminum Ions into CP–Ti; Journal of Alloys and Compounds; Vol. 793. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179.
एमएलए (9वां संस्करण) प्रशस्ति पत्रНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, et al. Ultra High Fluence Implantation of Aluminum Ions into CP–Ti; Journal of Alloys and Compounds; Vol. 793. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2019.04.179.