Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Bestetti M. Massimiliano, . . . Franz S. Silvia. (2019). Chromium films deposition by hot target high power pulsed magnetron sputtering: Deposition conditions and film properties. 2019. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.07.025
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Bestetti M. Massimiliano, Vicenzo A. Antonello, and Franz S. Silvia. Chromium Films Deposition by Hot Target High Power Pulsed Magnetron Sputtering: Deposition Conditions and Film Properties. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.07.025.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Chromium Films Deposition by Hot Target High Power Pulsed Magnetron Sputtering: Deposition Conditions and Film Properties. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.07.025.