Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna, & Chan My Kim An. (2018). High intensity, macroparticle-free, aluminum ion beam formation. 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna, and Chan My Kim An. High Intensity, Macroparticle-free, Aluminum Ion Beam Formation. 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. High Intensity, Macroparticle-free, Aluminum Ion Beam Formation. 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082.