Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna, & Chan My Kim An. (2018). High intensity, macroparticle-free, aluminum ion beam formation; Journal of Applied Physics; Vol. 123, iss. 23. 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082
Chicago Style (17. basım) AtıfНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna, ve Chan My Kim An. High Intensity, Macroparticle-free, Aluminum Ion Beam Formation; Journal of Applied Physics; Vol. 123, Iss. 23. 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082.
MLA (9th ed.) AtıfНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. High Intensity, Macroparticle-free, Aluminum Ion Beam Formation; Journal of Applied Physics; Vol. 123, Iss. 23. 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5034082.