Multilevel Hierarchical Structure Formed in the Film (Ti)/Substrate (SiC-Ceramics) System under Irradiation by an Intense Pulsed Electron Beam; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18)

Bibliographic Details
Parent link:AIP Conference Proceedings
Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18).— 2018.— [020110, 4 p.]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий Научно-исследовательский центр "Физическое материаловедение и композитные материалы", Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа энергетики Организационный отдел, Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Other Authors: Ivanov Yu. F. Yuriy Fedorovich, Shugurov V. Vladimir, Kalashnikov M. P. Mark Petrovich, Leonov A. A. Andrey Andreevich, Teresov A. Anton, Petyukevich M. S. Mariya Stanislavovna, Polisadova V. V. Valentina Valentinovna
Summary:Title screen
The aim of this study was the formation of multilevel hierarchical structure in the SiC ceramics surface layer as a result melting of the film (Ti)/substrate (SiC-ceramics) system by an intense pulsed electron beam. SiC ceramics samples obtained by SPS-sintering were used. Titanium film of 0.5 [mu]m was formed by vacuum electric-arc plasmaassisted spraying of cathode from VT1-0 technical-grade titanium. Irradiation of the film/substrate system was carried out with an intense pulsed electron beam of submillisecond duration with the following parameters: accelerated electron energy 17 keV, electron beam energy density 15 J/cm{2} , pulse duration 200 [mu]s, quantity of pulses 30, and residual gas (argon) pressure in the working chamber 0.03 Pa. As a result of completed studies formation of multilevel multiphase submicro-nanocrystalline hierarchical structure with microhardness in the range from 35 to 96 GPa was found, repeatedly.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Language:English
Published: 2018
Subjects:
Online Access:https://doi.org/10.1063/1.5083353
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=659176

MARC

LEADER 00000nla2a2200000 4500
001 659176
005 20251120164103.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\27636 
035 |a RU\TPU\network\27635 
090 |a 659176 
100 |a 20190124a2018 k y0engy50 ba 
101 0 |a eng 
105 |a y z 100zy 
135 |a drgn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Multilevel Hierarchical Structure Formed in the Film (Ti)/Substrate (SiC-Ceramics) System under Irradiation by an Intense Pulsed Electron Beam  |f Yu. F. Ivanov [et al.] 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: 14 tit.] 
330 |a The aim of this study was the formation of multilevel hierarchical structure in the SiC ceramics surface layer as a result melting of the film (Ti)/substrate (SiC-ceramics) system by an intense pulsed electron beam. SiC ceramics samples obtained by SPS-sintering were used. Titanium film of 0.5 [mu]m was formed by vacuum electric-arc plasmaassisted spraying of cathode from VT1-0 technical-grade titanium. Irradiation of the film/substrate system was carried out with an intense pulsed electron beam of submillisecond duration with the following parameters: accelerated electron energy 17 keV, electron beam energy density 15 J/cm{2} , pulse duration 200 [mu]s, quantity of pulses 30, and residual gas (argon) pressure in the working chamber 0.03 Pa. As a result of completed studies formation of multilevel multiphase submicro-nanocrystalline hierarchical structure with microhardness in the range from 35 to 96 GPa was found, repeatedly. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 0 |0 (RuTPU)RU\TPU\network\4816  |t AIP Conference Proceedings 
463 0 |0 (RuTPU)RU\TPU\network\27575  |t Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18)  |o Proceedings of the International conference, 1–5 October 2018, Tomsk, Russia  |f National Research Tomsk Polytechnic University (TPU); eds. V. E. Panin, S. G. Psakhie, V. M. Fomin  |v [020110, 4 p.]  |d 2018 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a иерархические структуры 
610 1 |a пленки 
610 1 |a подложки 
610 1 |a керамика 
610 1 |a облучение 
610 1 |a импульсные пучки 
610 1 |a электронные пучки 
610 1 |a спекание 
610 1 |a титан 
701 1 |a Ivanov  |b Yu. F.  |c physicist  |c Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences  |f 1955-  |g Yuriy Fedorovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\33559 
701 1 |a Shugurov  |b V.  |g Vladimir 
701 1 |a Kalashnikov  |b M. P.  |c physicist  |c Engineer of Tomsk Polytechnic University  |g Mark Petrovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\33561 
701 1 |a Leonov  |b A. A.  |c Specialist in the field of material science  |c Specialist in educational and methodical work of Tomsk Polytechnic University  |f 1991-  |g Andrey Andreevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\38521  |9 20811 
701 1 |a Teresov  |b A.  |g Anton 
701 1 |a Petyukevich  |b M. S.  |c Specialist in the field of material science  |c Engineer of Tomsk Polytechnic University  |f 1982-  |g Mariya Stanislavovna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\35551  |9 18732 
701 1 |a Polisadova  |b V. V.  |c Chemical Engineer  |c engineer-researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1947-  |g Valentina Valentinovna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\34598  |9 17960 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий  |b Научно-исследовательский центр "Физическое материаловедение и композитные материалы"  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\24957 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа новых производственных технологий  |b Отделение материаловедения  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23508 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа энергетики  |b Организационный отдел  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23585 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |c (2009- )  |9 26305 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20190124  |g RCR 
856 4 |u https://doi.org/10.1063/1.5083353 
942 |c CF