Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich, . . . Korneva O. S. Olga Sergeevna. (2018). Properties of Nanocomposite Nickel-Carbon Films Deposited by Magnetron Sputtering. 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-017-1209-1
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Properties of Nanocomposite Nickel-Carbon Films Deposited by Magnetron Sputtering. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-017-1209-1.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Properties of Nanocomposite Nickel-Carbon Films Deposited by Magnetron Sputtering. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-017-1209-1.