Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bestetti M. Massimiliano, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, . . . Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna. (2018). Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bestetti M. Massimiliano, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Franz S. Silvia, Vicenzo A. Antonello, and Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna. Deposition of Cr Films by Hot Target Magnetron Sputtering on Biased Substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Deposition of Cr Films by Hot Target Magnetron Sputtering on Biased Substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047.