Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bestetti M. Massimiliano, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, . . . Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna. (2018). Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047
Chicagoスタイル(17版)引用形式Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bestetti M. Massimiliano, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Franz S. Silvia, Vicenzo A. Antonello, , Shanenkova Yu. L. Yuliya Leonidovna. Deposition of Cr Films by Hot Target Magnetron Sputtering on Biased Substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047.
MLA(9版)引用形式Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Deposition of Cr Films by Hot Target Magnetron Sputtering on Biased Substrates; Surface and Coatings Technology; Vol. 350. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047.