Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 160
| Parent link: | Vacuum Vol. 160.— 2018.— [P. 418-420] |
|---|---|
| Hovedforfatter: | Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich |
| Institution som forfatter: | Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга |
| Andre forfattere: | Krivobokov V. P. Valery Pavlovich |
| Summary: | Title screen This paper reports on the effect of the type of Ni target (hot or cooled) on the angular thickness distribution, deposition rate and target utilization (K) for magnetron sputtering. Here it is shown that a change of magnetic field distribution does not influence on the mass of the deposited material. The Ni films will have a more uniform thickness, when films are obtained by hot target sputtering. The target utilization is higher for magnetron with hot target. This suggests a new approach to increase of K for the sputtering of magnetic targets. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Sprog: | engelsk |
| Udgivet: |
2018
|
| Fag: | |
| Online adgang: | https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.12.001 |
| Format: | Electronisk Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=658897 |
Lignende værker
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152
Udgivet: (2018)
Udgivet: (2018)
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1
Udgivet: (2016)
Udgivet: (2016)
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Udgivet: (2019)
Udgivet: (2019)
PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
Udgivet: (2017)
Udgivet: (2017)
The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169
Udgivet: (2019)
Udgivet: (2019)
Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Udgivet: (2019)
Udgivet: (2019)
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016)
Udgivet: (2016)
Udgivet: (2016)
Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target; Vacuum; Vol. 124
Udgivet: (2016)
Udgivet: (2016)
Effect of material of the crucible on operation of magnetron sputtering system with liquid-phase target; Vacuum; Vol. 141
Udgivet: (2017)
Udgivet: (2017)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source: Microstructure and functional properties of CrNx coatings; Vacuum; Vol. 200
Udgivet: (2022)
Udgivet: (2022)
Fabrication and physico-mechanical properties of thin magnetron sputter deposited silver-containing hydroxyapatite films; Applied Surface Science; Vol. 360, pt. B
Udgivet: (2015)
Udgivet: (2015)
Hybrid biocomposites based on titania nanotubes and a hydroxyapatite coating deposited by RF-magnetron sputtering: Surface topography, structure, and mechanical properties; Applied Surface Science; Vol. 426
Udgivet: (2017)
Udgivet: (2017)
Evaporation factor in productivity increase of hot target magnetron sputtering systems; Vacuum; Vol. 132
Udgivet: (2016)
Udgivet: (2016)
Angular distribution of coherent Cherenkov radiation from a tilted bunch passing through a slit in target; Charged and Neutral Particles Channeling Phenomena
af: Potylitsyn A. P. Alexander Petrovich
Udgivet: (2016)
af: Potylitsyn A. P. Alexander Petrovich
Udgivet: (2016)
Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
af: Киселева Д. В.
Udgivet: (2015)
af: Киселева Д. В.
Udgivet: (2015)
Нанесение электрохромных покрытий методом магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 2
af: Шпакова Н. Ю.
Udgivet: (2011)
af: Шпакова Н. Ю.
Udgivet: (2011)
Probing yields and angular distributions of Be(d,n) neutrons with novel target of compressed beryllium-powder; Radiation Physics and Chemistry; Vol. 197
Udgivet: (2022)
Udgivet: (2022)
Несбалансированная магнетронная распылительная система с электромагнитной катушкой; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
af: Шпакова Н. Ю.
Udgivet: (2009)
af: Шпакова Н. Ю.
Udgivet: (2009)
Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
af: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Udgivet: (Томск, 2016)
af: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Udgivet: (Томск, 2016)
A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled target; Vacuum; Vol. 143
Udgivet: (2017)
Udgivet: (2017)
Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition; Vacuum; Vol. 191
Udgivet: (2021)
Udgivet: (2021)
Magnetron sputtering of hot silicon carbide target; Surface and Coatings Technology; Vol. 528
Udgivet: (2026)
Udgivet: (2026)
Исследование эксплуатационных характеристик твердооксидных топливных элементов с YSZ/CGO электролитом; Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016)
af: Ромбаева М. Р.
Udgivet: (2016)
af: Ромбаева М. Р.
Udgivet: (2016)
Магнетронная распылительная система с жидкофазным катодом; Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых
af: Николаев М. В.
Udgivet: (2015)
af: Николаев М. В.
Udgivet: (2015)
Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине. Российский и международный опыт подготовки кадров
Udgivet: (2020)
Udgivet: (2020)
Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
af: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Udgivet: (2021)
af: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Udgivet: (2021)
Магнетронный диод на парах металлов; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
af: Жуков В. В.
Udgivet: (2002)
af: Жуков В. В.
Udgivet: (2002)
Плазменная технология осаждения отражающего покрытия на поверхность углепластика; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2
Udgivet: (2011)
Udgivet: (2011)
Адгезионные свойства серебросодержащих гидроксиапатитовых покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
af: Ткачев М. С.
Udgivet: (2016)
af: Ткачев М. С.
Udgivet: (2016)
Микротекстура поверхности покрытий оксинитридов титана, осажденных методов реактивного магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 3
af: Мазурик Е. А.
Udgivet: (2014)
af: Мазурик Е. А.
Udgivet: (2014)
Электропроводящие антифрикционные покрытия на основе системы CU-MO-S; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций
Udgivet: (2016)
Udgivet: (2016)
Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition; Surface and Coatings Technology; Vol. 334
Udgivet: (2018)
Udgivet: (2018)
Исследование влияния свойств тигля на интенсивность эмиссии атомов с поверхности жидкометаллической мишени МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
af: Валдаева С. В.
Udgivet: (2012)
af: Валдаева С. В.
Udgivet: (2012)
Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
af: Арсланов И. Р.
Udgivet: (2002)
af: Арсланов И. Р.
Udgivet: (2002)
Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
af: Рогожников Д. С.
Udgivet: (2016)
af: Рогожников Д. С.
Udgivet: (2016)
Покрытия на основе оксинитридов титана, осажденные методом реактивного магнетронного распыления: морфология поверхности и химический состав; Современные техника и технологии; Т. 3
af: Иванова Н. М.
Udgivet: (2014)
af: Иванова Н. М.
Udgivet: (2014)
Травление углеродных покрытий в плазме водорода; Водород. Технологии. Будущее
Udgivet: (2021)
Udgivet: (2021)
Antibacterial PLGA and PCL membranes, modified by magnetron sputtering method of copper target; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 1093 : Advanced Materials for Engineering and Functional Purposes (AMEFP 2020)
af: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Udgivet: (2021)
af: Badaraev A. D. Arsalan Dorzhievich
Udgivet: (2021)
Определение равномерности толщины никелевых покрытий, нанесенных на циркониевые сплавы методом магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
af: Цяо Цзинвэнь
Udgivet: (2017)
af: Цяо Цзинвэнь
Udgivet: (2017)
Изучение скорости растворения покрытий TiON в модельных биологических жидкостях; Химия и химическая технология в XXI веке
af: Ефимова Е. В.
Udgivet: (2017)
af: Ефимова Е. В.
Udgivet: (2017)
Lignende værker
-
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152
Udgivet: (2018) -
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1
Udgivet: (2016) -
Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Udgivet: (2019) -
PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
Udgivet: (2017) -
The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169
Udgivet: (2019)