Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий (ИШХБМТ), Milyutina E. V. Elena Vadimovna, Guselnikova O. A. Olga Andreevna, Marchuk V. Valentina, Elashnikov R. Roman, Burtsev V. Vasily, . . . Lyutakov O. Oleksy. (2018). Vapor Annealing and Colloid Lithography: An Effective Tool To Control Spatial Resolution of Surface Modification; Langmuir; Vol. 34 (11). 2018. https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.8b02025
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий (ИШХБМТ), Milyutina E. V. Elena Vadimovna, Guselnikova O. A. Olga Andreevna, Marchuk V. Valentina, Elashnikov R. Roman, Burtsev V. Vasily, Postnikov P. S. Pavel Sergeevich, Svorcik V. Vaclav, and Lyutakov O. Oleksy. Vapor Annealing and Colloid Lithography: An Effective Tool To Control Spatial Resolution of Surface Modification; Langmuir; Vol. 34 (11). 2018, 2018. https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.8b02025.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий (ИШХБМТ), et al. Vapor Annealing and Colloid Lithography: An Effective Tool To Control Spatial Resolution of Surface Modification; Langmuir; Vol. 34 (11). 2018, 2018. https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.8b02025.