Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, & Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich. (2018). The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering. 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020
Цитирование в стиле Чикаго (17-е изд.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, и Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich. The Role of Thermal Processes and Target Evaporation in Formation of Self-sputtering Mode for Copper Magnetron Sputtering. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020.
Цитирование MLA (9-е изд.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. The Role of Thermal Processes and Target Evaporation in Formation of Self-sputtering Mode for Copper Magnetron Sputtering. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020.