Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, & Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich. (2018). The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152. 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, and Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich. The Role of Thermal Processes and Target Evaporation in Formation of Self-sputtering Mode for Copper Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 152. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. The Role of Thermal Processes and Target Evaporation in Formation of Self-sputtering Mode for Copper Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 152. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020.