APA aipamena

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, & Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. (2018). Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C: H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method; Surface and Coatings Technology; Vol. 349. 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.06.019

Chicago Style aipamena

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, and Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich. Influence of Deposition Conditions on Mechanical Properties of A-C: H:SiOx Films Prepared by Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Method; Surface and Coatings Technology; Vol. 349. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.06.019.

MLA aipamena

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Influence of Deposition Conditions on Mechanical Properties of A-C: H:SiOx Films Prepared by Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Method; Surface and Coatings Technology; Vol. 349. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.06.019.