Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Инженерная школа новых производственных технологий (ИШНПТ) Отделение материаловедения (ОМ), Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, . . . Stepanov S. A. Sergey Aleksandrovich. (2018). Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films. 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7
Cytowanie według stylu Chicago (wyd. 17)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Инженерная школа новых производственных технологий (ИШНПТ) Отделение материаловедения (ОМ), Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, i Stepanov S. A. Sergey Aleksandrovich. Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7.
Cytowanie według stylu MLA (wyd. 9)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7.