Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Инженерная школа новых производственных технологий (ИШНПТ) Отделение материаловедения (ОМ), Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, . . . Stepanov S. A. Sergey Aleksandrovich. (2018). Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films; Russian Physics Journal; Vol. 60, iss. 9. 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Инженерная школа новых производственных технологий (ИШНПТ) Отделение материаловедения (ОМ), Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, and Stepanov S. A. Sergey Aleksandrovich. Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films; Russian Physics Journal; Vol. 60, Iss. 9. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Natural Oxidation of Ultra-Thin Copper Films; Russian Physics Journal; Vol. 60, Iss. 9. 2018, 2018. https://doi.org/10.1007/s11182-018-1251-7.