Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт природных ресурсов (ИПР) Кафедра технологии органических веществ и полимерных материалов (ТОВПМ), Burtsev V. Vasilii, Marchuk V. Valentina, Kugaevskiy A. Artem, Guselnikova O. A. Olga Andreevna, Elashnikov R. Roman, . . . Lyutakov O. Oleksy. (2018). Hydrophilic/hydrophobic surface modification impact on colloid lithography: Schottky-like defects, dislocation, and ideal distribution. 2018. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.10.055
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт природных ресурсов (ИПР) Кафедра технологии органических веществ и полимерных материалов (ТОВПМ), et al. Hydrophilic/hydrophobic Surface Modification Impact on Colloid Lithography: Schottky-like Defects, Dislocation, and Ideal Distribution. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.10.055.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الإصدار التاسع)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт природных ресурсов (ИПР) Кафедра технологии органических веществ и полимерных материалов (ТОВПМ), et al. Hydrophilic/hydrophobic Surface Modification Impact on Colloid Lithography: Schottky-like Defects, Dislocation, and Ideal Distribution. 2018, 2018. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.10.055.