Свойства тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного распыления

Bibliographic Details
Parent link:Материаловедение: научно-технический журнал.— , 2001-.— 1684-579X
№ 9.— 2016.— [С. 14-19]
Main Author: Ан В. В. Владимир Вилорьевич
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ)
Other Authors: Погребенков В. М. Валерий Матвеевич, Захаров А. Н. Александр Николаевич
Summary:Заглавие с экрана
В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published: 2016
Subjects:
Online Access:https://elibrary.ru/item.asp?id=26697791
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=656021

MARC

LEADER 00000nla2a2200000 4500
001 656021
005 20231219131808.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\22366 
090 |a 656021 
100 |a 20171018a2016 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Свойства тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного распыления  |f В. В. Ан, В. М. Погребенков, А. Н. Захаров 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 9 назв.] 
330 |a В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 0 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\1134  |x 1684-579X  |t Материаловедение  |o научно-технический журнал  |d 2001- 
463 0 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\264485  |t № 9  |v [С. 14-19]  |d 2016 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a тонкие пленки 
610 1 |a наноструктурные мишени 
610 1 |a сульфиды вольфрама 
610 1 |a сульфид меди 
610 1 |a магнетронное распыление 
700 1 |a Ан  |b В. В.  |c химик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор химических наук  |f 1972-  |g Владимир Вилорьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25572  |9 11502 
701 1 |a Погребенков  |b В. М.  |c химик-технолог  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1954-  |g Валерий Матвеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26404 
701 1 |a Захаров  |b А. Н.  |g Александр Николаевич 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18694 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21253 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20190225  |g RCR 
856 4 |u https://elibrary.ru/item.asp?id=26697791 
942 |c CF