Свойства тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного распыления; Материаловедение; № 9
| Parent link: | Материаловедение: научно-технический журнал.— , 2001-.— 1684-579X № 9.— 2016.— [С. 14-19] |
|---|---|
| Hlavní autor: | |
| Korporace: | , |
| Další autoři: | , |
| Shrnutí: | Заглавие с экрана В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
2016
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://elibrary.ru/item.asp?id=26697791 |
| Médium: | Elektronický zdroj Kapitola |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=656021 |
| Shrnutí: | Заглавие с экрана В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
|---|