Свойства тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного распыления

Bibliographic Details
Parent link:Материаловедение: научно-технический журнал.— , 2001-.— 1684-579X
№ 9.— 2016.— [С. 14-19]
Main Author: Ан В. В. Владимир Вилорьевич
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ)
Other Authors: Погребенков В. М. Валерий Матвеевич, Захаров А. Н. Александр Николаевич
Summary:Заглавие с экрана
В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published: 2016
Subjects:
Online Access:https://elibrary.ru/item.asp?id=26697791
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=656021
Description
Summary:Заглавие с экрана
В работе представлены результаты исследования свойств тонких пленок сульфидов вольфрама и меди, полученных методом магнетронного напыления на стеклянные подложки в атмосфере аргона. Спектрофотометрическим методом исследованы спектры пропускания полученных пленок в диапазоне от 300 до 900 нм и определены значения ширины запрещенной зоны. Толщина полученных пленок варьируется в диапазоне 0,5—1 мкм.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса