Model of the Anode Layer of a Magnetron Discharge

Model of the Anode Layer of a Magnetron Discharge

Dades bibliogràfiques
Parent link:	Russian Physics Journal Vol. 45, iss. 11.— 2002.— [С. 1066-1074]
Autor principal:	Rytchkov D. S.
Altres autors:	Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Marakassov D. A.
Sumari:	Title screen The anode layer of the magnetron discharge plasma is considered within the framework of a hydrodynamic approximation with the electron mobility and collision frequency assumed to be constant. A rigorous solution of the system of equations has been obtained. The solutions of this problem known so far have been shown to be particular cases of the one found in this work. The range of applicability of the anode layer model to the calculation of the main parameters of dc magnetron sputtering systems is discussed. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:	anglès
Publicat:	2002
Matèries:	электронный ресурс труды учёных ТПУ плазма распылительные системы токи модели применение
Accés en línia:	http://dx.doi.org/10.1023/A:1023391406689
Format:	Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=655666

Ítems similars

Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge
Publicat: (2004)

Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering
per: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publicat: (2018)

Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target
Publicat: (2016)

Травление углеродных покрытий в плазме водорода
Publicat: (2021)

Hybrid biocomposites based on titania nanotubes and a hydroxyapatite coating deposited by RF-magnetron sputtering: Surface topography, structure, and mechanical properties
Publicat: (2017)

PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties
Publicat: (2017)

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target
Publicat: (2019)

Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона
per: Зайцев Даниил Дмитриевич Д. Д.
Publicat: (2023)

Fabrication and physico-mechanical properties of thin magnetron sputter deposited silver-containing hydroxyapatite films
Publicat: (2015)

Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий
per: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publicat: (2020)

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit
Publicat: (2016)

Enhancement of emission currents in plasma electron sourcesbased on a low-pressure arc discharge
per: Koval T. V. Tamara Vasilievna
Publicat: (2015)

Магнетронная распылительная система на жидкофазных и твёрдых мишенях в сочетании с внешним пучком ускоренных ионов
per: Жукова М. А.
Publicat: (2007)

Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets
Publicat: (2019)

Conditions for uniform impact of the plasma of a runaway-electron-induced pulsed diffuse discharge on an anode
Publicat: (2015)

The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target
Publicat: (2019)

Нанесение электрохромных покрытий методом магнетронного распыления
per: Шпакова Н. Ю.
Publicat: (2011)

Баланс энергии на катодном узле магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
Publicat: (2014)

GIT16: A megajoule pulse generator with plasma switch for a Z-pinch load
Publicat: (1997)

The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering
Publicat: (2018)

Магнетронная распылительная система с жидкофазным катодом
per: Николаев М. В.
Publicat: (2015)

Осаждение TiN с помощью дуальной магнетронной распылительной системы
per: Тупикова О. С. Ольга Сергеевна
Publicat: (2011)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук спец. 01.04.07
per: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Publicat: (Томск, 2016)

Langmuir probe study of reactive magnetron discharge plasma in a three-component gas atmosphere
Publicat: (2016)

Тепловые процессы и эмиссия атомов с поверхности жидкофазной мишени магнетронной распылительной системы
per: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publicat: (2015)

Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями
Publicat: (2020)

Свойства магнетронного разряда на постоянном токе
Publicat: (2006)

Die Modellierung des Prozesses des Ununterbrochenen schmelzens des Unorganischen Rohstoffs mit dem Weiteren ablauf der Schmelze aus der Zone der Plasmaerwärmung
per: Malashenko M. S.
Publicat: (2016)

Effect of magnetron sputtered anode functional layer on the anode-supported solid oxide fuel cell performance
Publicat: (2019)

Адгезионные свойства серебросодержащих гидроксиапатитовых покрытий
per: Ткачев М. С.
Publicat: (2016)

Плазменная технология осаждения отражающего покрытия на поверхность углепластика
Publicat: (2011)

Микротекстура поверхности покрытий оксинитридов титана, осажденных методов реактивного магнетронного распыления
per: Мазурик Е. А.
Publicat: (2014)

Электропроводящие антифрикционные покрытия на основе системы CU-MO-S
Publicat: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук спец. 01.04.07
per: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Publicat: (Томск, 2017)

Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС
per: Киселева Д. В.
Publicat: (2015)

Теоретическое исследование оптимальных условий образования "парового облака" в системах с несколькими распылительными устройствами
per: Антонов Д. В. Дмитрий Владимирович
Publicat: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
per: Рогожников Д. С.
Publicat: (2016)

Покрытия на основе оксинитридов титана, осажденные методом реактивного магнетронного распыления: морфология поверхности и химический состав
per: Иванова Н. М.
Publicat: (2014)

Исследование влияния свойств тигля на интенсивность эмиссии атомов с поверхности жидкометаллической мишени МРС
per: Валдаева С. В.
Publicat: (2012)

Simulation of the Redistribution of Ions in Ion-Magnetron Setup
per: Saifullin E. Elmir
Publicat: (2016)