Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Musil Y. Yindrikh, Remnev G. E. Gennady Efimovich, Legostaev V. N. Viktor Nikiforovich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, Lebedinsky A. M. Aleksey Mikhaylovich, . . . Smolyanskiy E. A. Egor Aleksandrovich. (2016). Flexible hard Al-Si-N films for high temperature operation; Surface and Coatings Technology; Vol. 307, pt. B: Electrochemical and Plasma Electrolytic Modification of Metal Surfaces. 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.05.054
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, et al. Flexible Hard Al-Si-N Films for High Temperature Operation; Surface and Coatings Technology; Vol. 307, Pt. B: Electrochemical and Plasma Electrolytic Modification of Metal Surfaces. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.05.054.
Стиль цитування MLA (9-ме видання)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, et al. Flexible Hard Al-Si-N Films for High Temperature Operation; Surface and Coatings Technology; Vol. 307, Pt. B: Electrochemical and Plasma Electrolytic Modification of Metal Surfaces. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.05.054.