Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich, & Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich. (2017). Properties of ultra-thin Cu films grown by high power pulsed magnetron sputtering. 2017. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.04.005
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich, and Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich. Properties of Ultra-thin Cu Films Grown by High Power Pulsed Magnetron Sputtering. 2017, 2017. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.04.005.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), et al. Properties of Ultra-thin Cu Films Grown by High Power Pulsed Magnetron Sputtering. 2017, 2017. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2017.04.005.