The Mathematical Modeling of the Initial Stage of Ion Implantation into the Target with Coating

Détails bibliographiques
Parent link:Key Engineering Materials: Scientific Journal
Vol. 743 : High Technology: Research and Applications (HTRA 2016).— 2017.— [P. 138-141]
Auteur principal: Parfenova E. S. Elena Sergeevna
Collectivité auteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Учебно-научная межотраслевая междисциплинарная лаборатория "Моделирование физико-химических процессов в современных технологиях" (УНММЛ "МФХПСТ")
Résumé:Title screen
The paper presents a non-isothermal model of the initial stage of ion implantation process. The model takes into account the existence of internal interfaces. The model assumes that the implantable impurity generates mechanical perturbations. These disturbances can propagate at different speeds before and after internal boundary. The examples of the waveform evolution in transition across the border are shown.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Publié: 2017
Sujets:
Accès en ligne:http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.743.138
Format: Électronique Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=655455