Citazione Stile APA (7a Edizione)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Лаборатория № 22, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, . . . Zhelomsky S. G. Sergey Gennadjevich. (2016). Tangential cathode magnetic field and substrate bias influence on copper vacuum arc macroparticle content decreasing; Surface and Coatings Technology; Vol. 306, Pt. A: Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB 2015). 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.04.003

Citazione stile Chigago Style (17a edizione)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Лаборатория № 22, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, e Zhelomsky S. G. Sergey Gennadjevich. Tangential Cathode Magnetic Field and Substrate Bias Influence on Copper Vacuum Arc Macroparticle Content Decreasing; Surface and Coatings Technology; Vol. 306, Pt. A: Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB 2015). 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.04.003.

Citatione MLA (9a ed.)

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), et al. Tangential Cathode Magnetic Field and Substrate Bias Influence on Copper Vacuum Arc Macroparticle Content Decreasing; Surface and Coatings Technology; Vol. 306, Pt. A: Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB 2015). 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.04.003.

Attenzione: Queste citazioni potrebbero non essere precise al 100%.