Влияние поверхностной модификации пучками ионов кремния на микроструктуру и химический состав приповерхностных слоев никелида титана; Перспективные материалы; № 2
| Parent link: | Перспективные материалы.— , 1995- № 2.— 2013.— [С. 42-49] |
|---|---|
| Muut tekijät: | , , , , , |
| Yhteenveto: | Заглавие с экрана Изучены закономерности изменения химического состава и микроструктуры никелида титана после воздействий на его поверхность потоками ионов кремния в режиме высокодозовой ионной имплантации. Показано, что воздействие пучками ионов кремния на поверхность сплава TiNi приводит к формированию оксидного слоя в ~6 раз большей толщины, чем у исходного сплава, с содержанием кислорода в нем на ~20 % больше, чем до ионно-пучковой обработки, и обедненного никелем вплоть до его отсутствия в приповерхностном слое облученного образца толщиной около 20 нм. Исследования методами дифракции обратнорассеянных электронов приповерхностной зоны под облученной поверхностью в образцах никелида титана показали, что под действием пучков ионов кремния имеет место фрагментация приповерхностной части отдельных зерен фазы В2, выходящих на поверхность, с образованием зеренно-субзеренной структуры с уменьшением размеров фрагментов (зерен) до 5 - 15 мкм. Высказано предположение о влиянии ориентации зерна на выявленный эффект. The work purpose is to study regularities variation of the nickel titanium chemical composition and a microstructure after silicon ion beam surface modification by the high-dose ion implantation. It is shown that impacts by silicon ion beams on a surface of the TiNi alloy leads to formation of an oxide layer in ~6 times thicker, than an initial alloy thickness. The concentrate of oxygen on the surface became ~20% larger, than it was before the ion-modification. The concentration of nickel on the surface is depleted with its totally absence on the surface of the irradiated samples. The subsurface modified layer was investigated by the electron backscatter diffraction technique of the TiNi samples. It was found that after the silicon ion beam impact the subsurface of the individual grains of the B2 phase becomes fragmented, with the substructure grain formation and with the grain fragments decreases up to 5 - 15 ?m. The suggestion is given about the influence of the B2 phase grain orientation on the revealed effect. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Kieli: | venäjä |
| Julkaistu: |
2013
|
| Aiheet: | |
| Linkit: | http://elibrary.ru/item.asp?id=18770755 |
| Aineistotyyppi: | Elektroninen Kirjan osa |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=653877 |
MARC
| LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 653877 | ||
| 005 | 20250228141318.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\19392 | ||
| 035 | |a RU\TPU\network\15437 | ||
| 090 | |a 653877 | ||
| 100 | |a 20170403d2013 k||y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Влияние поверхностной модификации пучками ионов кремния на микроструктуру и химический состав приповерхностных слоев никелида титана |d The influence of silicon ion beam surface modification on microstructure and chemical composition of NiTi subsurface layers |f С. Г. Псахье [и др.] | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 330 | |a Изучены закономерности изменения химического состава и микроструктуры никелида титана после воздействий на его поверхность потоками ионов кремния в режиме высокодозовой ионной имплантации. Показано, что воздействие пучками ионов кремния на поверхность сплава TiNi приводит к формированию оксидного слоя в ~6 раз большей толщины, чем у исходного сплава, с содержанием кислорода в нем на ~20 % больше, чем до ионно-пучковой обработки, и обедненного никелем вплоть до его отсутствия в приповерхностном слое облученного образца толщиной около 20 нм. Исследования методами дифракции обратнорассеянных электронов приповерхностной зоны под облученной поверхностью в образцах никелида титана показали, что под действием пучков ионов кремния имеет место фрагментация приповерхностной части отдельных зерен фазы В2, выходящих на поверхность, с образованием зеренно-субзеренной структуры с уменьшением размеров фрагментов (зерен) до 5 - 15 мкм. Высказано предположение о влиянии ориентации зерна на выявленный эффект. | ||
| 330 | |a The work purpose is to study regularities variation of the nickel titanium chemical composition and a microstructure after silicon ion beam surface modification by the high-dose ion implantation. It is shown that impacts by silicon ion beams on a surface of the TiNi alloy leads to formation of an oxide layer in ~6 times thicker, than an initial alloy thickness. The concentrate of oxygen on the surface became ~20% larger, than it was before the ion-modification. The concentration of nickel on the surface is depleted with its totally absence on the surface of the irradiated samples. The subsurface modified layer was investigated by the electron backscatter diffraction technique of the TiNi samples. It was found that after the silicon ion beam impact the subsurface of the individual grains of the B2 phase becomes fragmented, with the substructure grain formation and with the grain fragments decreases up to 5 - 15 ?m. The suggestion is given about the influence of the B2 phase grain orientation on the revealed effect. | ||
| 333 | |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 | |t Перспективные материалы |d 1995- | ||
| 463 | |t № 2 |v [С. 42-49] |d 2013 | ||
| 510 | 1 | |a The influence of silicon ion beam surface modification on microstructure and chemical composition of NiTi subsurface layers |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a никелид титана | |
| 610 | 1 | |a модификация поверхности | |
| 610 | 1 | |a кремний | |
| 610 | 1 | |a дифракция обратнорассеянных электронов | |
| 610 | 1 | |a фрагментация приповерхностной микроструктуры | |
| 701 | 1 | |a Псахье |b С. Г. |c физик |c заведующий лабораторией, советник ректора, заведующий кафедрой Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1952- |g Сергей Григорьевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25589 | |
| 701 | 1 | |a Лотков |b А. И. | |
| 701 | 1 | |a Мейснер |b С. Н. | |
| 701 | 1 | |a Мейснер |b Л. Л. | |
| 701 | 1 | |a Сергеев |b В. П. |c специалист в области материаловедения |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук |f 1949- |g Виктор Петрович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25827 |9 11700 | |
| 701 | 1 | |a Сунгатулин |b А. Р. | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20170406 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://elibrary.ru/item.asp?id=18770755 | |
| 942 | |c CF | ||