Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Astashinskaya M. V. Marina Viktorovna, Astashinsky V. V. Valentin Valentinovich, Kvasov N. T. Nikolay Trafimovich, & Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. (2016). Microstructure of amorphous copper-carbon thin films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition; High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; Vol. 20, iss. 2. 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797
Chicago-viite (17. p.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Astashinskaya M. V. Marina Viktorovna, Astashinsky V. V. Valentin Valentinovich, Kvasov N. T. Nikolay Trafimovich, ja Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. Microstructure of Amorphous Copper-carbon Thin Films Formed by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition; High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; Vol. 20, Iss. 2. 2016, 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797.
MLA-viite (9. p.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, et al. Microstructure of Amorphous Copper-carbon Thin Films Formed by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition; High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; Vol. 20, Iss. 2. 2016, 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797.