Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Astashinskaya M. V. Marina Viktorovna, Astashinsky V. V. Valentin Valentinovich, Kvasov N. T. Nikolay Trafimovich, & Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. (2016). Microstructure of amorphous copper-carbon thin films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition. 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Astashinskaya M. V. Marina Viktorovna, Astashinsky V. V. Valentin Valentinovich, Kvasov N. T. Nikolay Trafimovich, and Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. Microstructure of Amorphous Copper-carbon Thin Films Formed by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition. 2016, 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797.

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, et al. Microstructure of Amorphous Copper-carbon Thin Films Formed by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition. 2016, 2016. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2016017797.