Изотопные эффекты при плазменном распылении титана в кислород-аргоновой среде; Известия вузов. Физика; Т. 58, № 2-2

Détails bibliographiques
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957-
Т. 58, № 2-2.— 2015.— [С. 64-67]
Auteur principal: Беспала Е. В. Евгений Владимирович
Autres auteurs: Перекрестов Р. В. Роман Вячеславович
Résumé:Заглавие с экрана
Рассматриваются процессы, протекающие при окислении изотопов титана в низкотемпературной плазме, находящейся в постоянном магнитном поле. Описана экспериментальная установка для нанесения пленок диоксида титана, содержащая плазмохимический реактор и источник плазмы с полым катодом. Исследования проводились при различных давлениях в камере, мощности плазмотрона и величине магнитного поля. С помощью масс-спектрометра непрерывно определяли изотопный состав частиц в различных сечениях плазмы.
The processes that occur during the oxidation of titanium isotopes in low-temperature plasma in a constant magnetic field. An experimental setup for the application of titanium dioxide films containing plasma chemical reactor and a plasma source with a hollow cathode. Investigations were carried out at different pressures in the chamber, the plasma torch power and the magnetic field. With a mass spectrometer is continuously determined isotopic composition particles in various sections of the plasma.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Langue:russe
Publié: 2015
Sujets:
Accès en ligne:http://elibrary.ru/item.asp?id=25864683
Format: Électronique Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651383

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 651383
005 20250320113328.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\16632 
035 |a RU\TPU\network\14758 
090 |a 651383 
100 |a 20161110d2015 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Изотопные эффекты при плазменном распылении титана в кислород-аргоновой среде  |d Isotope effects in plasma sputtering of titanium in oxygen-argon atmosphere  |f Е. В. Беспала, Р. В. Перекрестов 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: 3 назв.] 
330 |a Рассматриваются процессы, протекающие при окислении изотопов титана в низкотемпературной плазме, находящейся в постоянном магнитном поле. Описана экспериментальная установка для нанесения пленок диоксида титана, содержащая плазмохимический реактор и источник плазмы с полым катодом. Исследования проводились при различных давлениях в камере, мощности плазмотрона и величине магнитного поля. С помощью масс-спектрометра непрерывно определяли изотопный состав частиц в различных сечениях плазмы. 
330 |a The processes that occur during the oxidation of titanium isotopes in low-temperature plasma in a constant magnetic field. An experimental setup for the application of titanium dioxide films containing plasma chemical reactor and a plasma source with a hollow cathode. Investigations were carried out at different pressures in the chamber, the plasma torch power and the magnetic field. With a mass spectrometer is continuously determined isotopic composition particles in various sections of the plasma. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |o научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)  |d 1957- 
463 |t Т. 58, № 2-2  |v [С. 64-67]  |d 2015 
510 1 |a Isotope effects in plasma sputtering of titanium in oxygen-argon atmosphere  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a тлеющий разряд 
610 1 |a катоды 
610 1 |a титан 
610 1 |a кислород 
610 1 |a изотопы 
700 1 |a Беспала  |b Е. В.  |c инженер-физик  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1990-  |g Евгений Владимирович  |9 23116 
701 1 |a Перекрестов  |b Р. В.  |g Роман Вячеславович 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20161110  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=25864683 
942 |c CF