Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Syrtanov M. S. Maksim Sergeevich, & Koyshybaeva Z. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. (2016). Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). 2016. https://doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Syrtanov M. S. Maksim Sergeevich, and Koyshybaeva Z. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), et al. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193.