Структура, формирующаяся при обработке поверхности заэвтектического силумина высокоинтенсивным электронным пучком; Материаловедение, технологии и экология в третьем тысячелетии

Xehetasun bibliografikoak
Parent link:Материаловедение, технологии и экология в третьем тысячелетии.— 2016.— [С. 46-50]
Egile korporatiboa: Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Beste egile batzuk: Рыгина М. Е. Мария Евгеньевна, Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович, Асташинская М. В. Марина Викторовна, Петрикова Е. А. Елизавета Алексеевна, Тересов А. Д. Антон Дмитриевич, Черенда Н. Н. Николай Николаевич, Углов В. В. Владимир Васильевич, Ласковнев А. П. Александр Петрович
Gaia:Заглавие с экрана
Представлены результаты, полученные при исследовании элементного и фазового состава, дефектной субструктуры и механических (микротвердость) и трибологических (износостойкость и коэффициент трения) свойств заэвтектического силумина (24-26 вес.% Si) до и после обработки высокоинтенсивным импульсным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия.
Abstract. In the study there are the results of the elemental and phase compositions, and mechanical defect substructure (microhardness) and tribological properties of the hypereutectic silumin (24-26 wt.% Si) before and after treatment with high-intensity pulsed electron beam exposure submillisecond duration.
Hizkuntza:errusiera
Argitaratua: 2016
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:http://symp.iao.ru/files/symp/docs/doc-00247_ru.pdf#page=46
Formatua: Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651240