Влияние кристаллографической ориентации облучаемой поверхности на особенности структурных перестроек при ионной имплантации; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций

Влияние кристаллографической ориентации облучаемой поверхности на особенности структурных перестроек при ионной имплантации; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций

التفاصيل البيبلوغرافية
Parent link:Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций.— 2016.— [С. 315-316]
مؤلف مشترك: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
مؤلفون آخرون: Крыжевич Д. С., Корчуганов А. В., Зольников К. П., Псахье С. Г. Сергей Григорьевич
الملخص:Заглавие с экрана
اللغة:الروسية
منشور في: 2016
سلاسل:Проблемы компьютерного конструирования материалов с иерархической структурой
الموضوعات:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
кристаллографическая ориентация
облучение
поверхности
ионная имплантация
поверхностные слои
пластические деформации
металлы
الوصول للمادة أونلاين:http://www.ispms.ru/files/Conference/2016/Sbornik_1.pdf#page=315
التنسيق: الكتروني فصل الكتاب
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651114

الانترنت

http://www.ispms.ru/files/Conference/2016/Sbornik_1.pdf#page=315

مواد مشابهة