Влияние кристаллографической ориентации облучаемой поверхности на особенности структурных перестроек при ионной имплантации; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций

Detalhes bibliográficos
Parent link:	Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций.— 2016.— [С. 315-316]
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
Outros Autores:	Крыжевич Д. С., Корчуганов А. В., Зольников К. П., Псахье С. Г. Сергей Григорьевич
Resumo:	Заглавие с экрана
Idioma:	russo
Publicado em:	2016
Colecção:	Проблемы компьютерного конструирования материалов с иерархической структурой
Assuntos:	электронный ресурс труды учёных ТПУ кристаллографическая ориентация облучение поверхности ионная имплантация поверхностные слои пластические деформации металлы
Acesso em linha:	http://www.ispms.ru/files/Conference/2016/Sbornik_1.pdf#page=315
Formato:	Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651114

Internet