Влияние кристаллографической ориентации облучаемой поверхности на особенности структурных перестроек при ионной имплантации; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций

Opis bibliograficzny
Parent link:	Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций.— 2016.— [С. 315-316]
Korporacja:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
Kolejni autorzy:	Крыжевич Д. С., Корчуганов А. В., Зольников К. П., Псахье С. Г. Сергей Григорьевич
Streszczenie:	Заглавие с экрана
Język:	rosyjski
Wydane:	2016
Seria:	Проблемы компьютерного конструирования материалов с иерархической структурой
Hasła przedmiotowe:	электронный ресурс труды учёных ТПУ кристаллографическая ориентация облучение поверхности ионная имплантация поверхностные слои пластические деформации металлы
Dostęp online:	http://www.ispms.ru/files/Conference/2016/Sbornik_1.pdf#page=315
Format:	MixedMaterials Elektroniczne Rozdział
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651114

Internet