Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, & Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich. (2016). Comparative study of Cu films prepared by DC, high power pulsed and burst magnetron sputtering; Journal of Electronic Materials; Vol. 45, iss. 8. 2016. https://doi.org/10.1007/s11664-016-4582-6
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Oskirko V. O. Vladimir Olegovich, Semenov V. A. Vyacheslav Arkadjevich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, and Rabotkin S. V. Sergey Viktorovich. Comparative Study of Cu Films Prepared by DC, High Power Pulsed and Burst Magnetron Sputtering; Journal of Electronic Materials; Vol. 45, Iss. 8. 2016, 2016. https://doi.org/10.1007/s11664-016-4582-6.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, et al. Comparative Study of Cu Films Prepared by DC, High Power Pulsed and Burst Magnetron Sputtering; Journal of Electronic Materials; Vol. 45, Iss. 8. 2016, 2016. https://doi.org/10.1007/s11664-016-4582-6.