Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Erofeev E. V. Evgeny Viktorovich, Penkova O. V. Olga Valerjevna, & Novikov V. A. Vadim Aleksandrovich. (2016). The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 134. 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.007
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Erofeev E. V. Evgeny Viktorovich, Penkova O. V. Olga Valerjevna, and Novikov V. A. Vadim Aleksandrovich. The Oxygen-deficient TiO2 Films Deposited by a Dual Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 134. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.007.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, et al. The Oxygen-deficient TiO2 Films Deposited by a Dual Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 134. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.007.