Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), Zhidik Y. S., Troyan P. E., Baturina E. V., Korzhenko D. V. Dmitry Vladimirovich, & Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. (2016). Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate. 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), Zhidik Y. S., Troyan P. E., Baturina E. V., Korzhenko D. V. Dmitry Vladimirovich, and Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. Deposition of the Low Resistive ITO-films by Means of Reactive Magnetron Sputtering of the In/Sn Target on the Cold Substrate. 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), et al. Deposition of the Low Resistive ITO-films by Means of Reactive Magnetron Sputtering of the In/Sn Target on the Cold Substrate. 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055.