Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), Zhidik Y. S., Troyan P. E., Baturina E. V., Korzhenko D. V. Dmitry Vladimirovich, & Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. (2016). Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine. 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055
শিকাগো স্টাইল (17 তম সংস্করণ) উদ্ধৃতিНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), Zhidik Y. S., Troyan P. E., Baturina E. V., Korzhenko D. V. Dmitry Vladimirovich, এবং Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. Deposition of the Low Resistive ITO-films by Means of Reactive Magnetron Sputtering of the In/Sn Target on the Cold Substrate; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine. 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055.
M.L.A (9 ম সংস্করণ) উদ্ধৃতিНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ), et al. Deposition of the Low Resistive ITO-films by Means of Reactive Magnetron Sputtering of the In/Sn Target on the Cold Substrate; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine. 2016, 2016. https://doi.org/10.1088/1757-899X/135/1/012055.