Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги; Известия вузов. Физика; Т. 59, № 6

Dades bibliogràfiques
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал.— , 1957-
Т. 59, № 6.— 2016.— [С. 125-130]
Autor principal: Рябчиков А. И. Александр Ильич
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Лаборатория № 22
Altres autors: Ананьин П. С. Петр Семенович, Шевелев А. Э. Алексей Эдуардович
Sumari:Заглавие с экрана
Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование вакуумно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2-3 порядка.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:rus
Publicat: 2016
Matèries:
Accés en línia:http://elibrary.ru/item.asp?id=26454874
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=649858
Descripció
Sumari:Заглавие с экрана
Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование вакуумно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2-3 порядка.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса