Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, Ivanov Yu. F. Yuriy Fedorovich, Laskovnev A. P., Teresov A. D., Cherenda N. N. Nikolay Nikolaevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, . . . Koval N. N. (2015). High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827
Chicago Style (17. basım) AtıfНациональный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, Ivanov Yu. F. Yuriy Fedorovich, Laskovnev A. P., Teresov A. D., Cherenda N. N. Nikolay Nikolaevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, Petrikova E. A., Astashinskaya M. V., ve Koval N. N. High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. 2015, 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827.
MLA (9th ed.) AtıfНациональный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, et al. High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. 2015, 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827.