Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, Ivanov Yu. F. Yuriy Fedorovich, Laskovnev A. P., Teresov A. D., Cherenda N. N. Nikolay Nikolaevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, . . . Koval N. N. (2015). High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; High Temperature Material Processes; Vol. 19, iss. 1. 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827
Cita Chicago (17th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, Ivanov Yu. F. Yuriy Fedorovich, Laskovnev A. P., Teresov A. D., Cherenda N. N. Nikolay Nikolaevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, Petrikova E. A., Astashinskaya M. V., i Koval N. N. High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; High Temperature Material Processes; Vol. 19, Iss. 1. 2015, 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827.
Cita MLA (9th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1, et al. High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes; High Temperature Material Processes; Vol. 19, Iss. 1. 2015, 2015. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2015015827.