Электронно-микроскопические исследования приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO[2](Y) - Al[2]O[3], модифицированных сильноточным пучком низкоэнергетических электронов; Перспективные материалы; № 1

Dades bibliogràfiques
Parent link:Перспективные материалы.— , 1995-
№ 1.— 2014.— [С. 55-59]
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт неразрушающего контроля Кафедра физических методов и приборов контроля качества
Altres autors: Суржиков А. П. Анатолий Петрович, Франгульян Т. С. Тамара Семёновна, Гынгазов С. А. Сергей Анатольевич, Васильев И. П. Иван Петрович
Sumari:Заглавие с экрана
Методом растровой электронной микроскопии (РЭМ) изучено действие сильноточного импульсного пучка низкоэнергетических электронов на структурное состояние приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO[2](Y) - Al[2]O[3] с различным уровнем пористости. Показано, что электронная обработка приводит к плавлению и последующей кристаллизации приповерхностного слоя керамики толщиной 30 - 40 мкм. Проведен РЭМ анализ микроструктуры поверхности и поперечного сечения модифицированных электронным пучком слоев керамических образцов. Показано, что в облученном приповерхностном слое всех исследованных типов керамики поры и зерна корундовой фазы практически отсутствовали. Обнаружено, что облучение электронным пучком керамических материалов приводит к уменьшению размера зерен и формированию текстуры в их приповерхностных слоях.
The effect of low-energy high-current pulsed electron beam on the structural state of near-surface layers of composite ceramics of ZrO 2 (Y) - Al 2O 3 with different levels of porosity is investigated. It is shown that electron-beam treatment leads to melting and subsequent crystallization of ceramic nearsurface layer thickness of 30 - 40 μm. SEM analysis of the microstructure surface and cross section of the modified electron beam layers of ceramic samples was carried out. It is shown that in the irradiated surface layer of all the types of ceramics pores and grains of corundum phase are practically absent. It was found that irradiation by electron beam of ceramics material results in decrease of grain size and formation of texture in near-surface layer.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:rus
Publicat: 2014
Matèries:
Accés en línia:http://elibrary.ru/item.asp?id=21090933
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=649216

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 649216
005 20250303131015.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\14377 
035 |a RU\TPU\network\3830 
090 |a 649216 
100 |a 20160624d2014 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Электронно-микроскопические исследования приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO[2](Y) - Al[2]O[3], модифицированных сильноточным пучком низкоэнергетических электронов  |d Electron microscopy study of ZrO 2(Y) - Al 2O 3 composite ceramics near-surface layers modified by high-current low-energy electron beam  |f А. П. Суржиков, Т. С. Франгульян, С. А. Гынгазов, И. П. Васильев 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 59 (5 назв.)] 
330 |a Методом растровой электронной микроскопии (РЭМ) изучено действие сильноточного импульсного пучка низкоэнергетических электронов на структурное состояние приповерхностных слоев композиционной керамики системы ZrO[2](Y) - Al[2]O[3] с различным уровнем пористости. Показано, что электронная обработка приводит к плавлению и последующей кристаллизации приповерхностного слоя керамики толщиной 30 - 40 мкм. Проведен РЭМ анализ микроструктуры поверхности и поперечного сечения модифицированных электронным пучком слоев керамических образцов. Показано, что в облученном приповерхностном слое всех исследованных типов керамики поры и зерна корундовой фазы практически отсутствовали. Обнаружено, что облучение электронным пучком керамических материалов приводит к уменьшению размера зерен и формированию текстуры в их приповерхностных слоях. 
330 |a The effect of low-energy high-current pulsed electron beam on the structural state of near-surface layers of composite ceramics of ZrO 2 (Y) - Al 2O 3 with different levels of porosity is investigated. It is shown that electron-beam treatment leads to melting and subsequent crystallization of ceramic nearsurface layer thickness of 30 - 40 μm. SEM analysis of the microstructure surface and cross section of the modified electron beam layers of ceramic samples was carried out. It is shown that in the irradiated surface layer of all the types of ceramics pores and grains of corundum phase are practically absent. It was found that irradiation by electron beam of ceramics material results in decrease of grain size and formation of texture in near-surface layer. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Перспективные материалы  |d 1995- 
463 |t № 1  |v [С. 55-59]  |d 2014 
510 1 |a Electron microscopy study of ZrO 2(Y) - Al 2O 3 composite ceramics near-surface layers modified by high-current low-energy electron beam  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a композиционные материалы 
610 1 |a электронные пучки 
610 1 |a влияние 
610 1 |a поверхностные слои 
610 1 |a микроструктура 
610 1 |a текстура 
701 1 |a Суржиков  |b А. П.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1951-  |g Анатолий Петрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22010  |9 9307 
701 1 |a Франгульян  |b Т. С.  |c специалист в области электроники, диэлектриков и полупроводников  |c ведущий научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1940-  |g Тамара Семёновна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26534  |9 12228 
701 1 |a Гынгазов  |b С. А.  |c специалист в области электроники  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1958-  |g Сергей Анатольевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26531  |9 12225 
701 1 |a Васильев  |b И. П.  |c специалист в области электротехники  |c лаборант-исследователь Томского политехнического университета  |f 1990-  |g Иван Петрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30664  |9 14945 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Институт неразрушающего контроля  |b Кафедра физических методов и приборов контроля качества  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18709  |9 27162 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20201111  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=21090933 
942 |c CF