Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Parent link:	Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016: Book of Abstracts 3rd International School and Conference, St Petersburg, Russia, March 28-30, 2016. [P. 571-572].— , 2016
Συλλογικό Έργο:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Άλλοι συγγραφείς:	Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Syrtanov M. S. Maksim Sergeevich, Koyshybaeva Zh. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy
Περίληψη:	Title screen This article reports on technological possibilities of magnetron sputtering systemswith solid-state and liquid targets to deposition of Al films and its structure. There is shown acomparing of deposition rate of magnetron sputtering systems with direct current (DC), midfrequency(MF) and high power pulsed (HiPIMS) supplies. The dependence of plasmacomposition, films stricture and sputtering technique parameters is obtained.
Έκδοση:	2016
Θέματα:	электронный ресурс труды учёных ТПУ
Διαθέσιμο Online:	http://spbopen.spbau.com/PDF/Book_of_Abstracts_SPBOPEN_2016.pdf#page=571
Μορφή:	Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648815

Διαδίκτυο

http://spbopen.spbau.com/PDF/Book_of_Abstracts_SPBOPEN_2016.pdf#page=571