Aзотирование технически чистого титана в тлеющем разряде с полым катодом

Bibliographic Details
Parent link:Письма в журнал технической физики.— , 1975-
Т. 31, № 13.— 2005.— [P. 24-30]
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Other Authors: Ахмадеев Ю. Х., Гончаренко И. М., Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович, Коваль Н. Н. Николай Николаевич, Щанин П. М.
Summary:Заглавие с экрана
Приведены результаты исследования азотирования титана марки ВТ1-0 при низких давлениях и низких температурах (6 550◦C) в плазме тлеющего разряда с полым катодом. В плазме с концентрацией n = 1010−1011 cm−3 диффузионноенасыщение титана азотом происходит при плотностях ионного тока на катоде 1.6−4.0 mA/cm2, причем, как было установлено в процессе насыщения, определяющую роль играет атомарный азот. Выявлено формирование градиентной структуры с высокой 14 GPa микротвердостью на поверхности.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published: 2005
Subjects:
Online Access:http://elibrary.ru/item.asp?id=20338251&
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648643

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 648643
005 20250224113510.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\13802 
035 |a RU\TPU\network\13794 
090 |a 648643 
100 |a 20160526d2005 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Aзотирование технически чистого титана в тлеющем разряде с полым катодом  |f Ю. Х. Ахмадеев [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 30 (9 назв.)] 
330 |a Приведены результаты исследования азотирования титана марки ВТ1-0 при низких давлениях и низких температурах (6 550◦C) в плазме тлеющего разряда с полым катодом. В плазме с концентрацией n = 1010−1011 cm−3 диффузионноенасыщение титана азотом происходит при плотностях ионного тока на катоде 1.6−4.0 mA/cm2, причем, как было установлено в процессе насыщения, определяющую роль играет атомарный азот. Выявлено формирование градиентной структуры с высокой 14 GPa микротвердостью на поверхности. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Письма в журнал технической физики  |d 1975- 
463 |t Т. 31, № 13  |v [P. 24-30]  |d 2005 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Ахмадеев  |b Ю. Х. 
701 1 |a Гончаренко  |b И. М. 
701 1 |a Иванов  |b Ю. Ф.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1955-  |g Юрий Федорович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28208  |9 13162 
701 1 |a Коваль  |b Н. Н.  |c специалист в области электроники  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1948-  |g Николай Николаевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31831  |9 15926 
701 1 |a Щанин  |b П. М. 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |c (2009- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\15902 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20161018  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=20338251& 
942 |c CF